Pressmeddelande
Det här pressmeddelandet är en översättning av den officiella engelskspråkiga versionen. Det publiceras endast som praktisk referens för användaren. Läs den ursprungliga engelska versionen för information. Vid skillnader mellan texterna är det den engelska versionen som gäller.
FÖR OMEDELBAR PUBLICERING Nr 3750
Subnanosekundbaserat DUV-lasersystem
TOKYO, den 26 november 2024 – Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO: 6503) meddelade idag att företaget, i samarbete med RIKEN (institutet för fysik- och kemiforskning) och IMS (institutet för molekylärvetenskap) vid de naturvetenskapliga instituten i Japan, har utvecklat ett DUV-våglängdslasersystem (djup ultraviolett) med högenergi-kortpuls* (subnanosekund) som åstadkommer en utgående energi på 235 millijoule, världens högsta** pulsenergi. Det kompakta och bärbara lasersystemet har installerats i ett särskilt område på RIKEN:s anläggning vid IMS i Japan, där det ska användas för acceleratorforskning och -utveckling.
Subnanosekundpulser uppnåddes med hjälp av en mikrochiplaser med förmåga att generera extremt korta pulser och högt energiuttag åstadkoms genom att optimera stråldiametern. Dessutom har den gemensamt utvecklade Distributed Face Cooling-tekniken implementerats i ett chip med hög värmeavledning utvecklat av RIKEN och IMS, vilket gör att lasern i jouleklass kan drivas i rumstemperatur, till skillnad från konventionella högeffektlasrar som kräver kylning i låga temperaturer.
Mitsubishi Electric fortsätter utvecklingen av företagets laseraccelerationsteknik och lasersystemminiatyrisering, för att därigenom bidra till teknisk innovation inom en mängd olika områden.
Observera att pressmeddelanden är korrekta vid tidpunkten för publicering men kan ändras utan föregående meddelande.